文献

J-GLOBAL ID：200902195050102421   整理番号：03A0048534

光酸発生剤及び光塩基発生剤を用いた新しい感光性高分子の進歩

Development of Novel Photosensitive Polymer Systems Using Photoacid and Photobase Generators.

著者 (4件)： SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SUYAMA K (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 5  ページ： 715-730  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 感光性高分子(PHP)中に光増感剤として光酸発生剤(PAG)...

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,...
準シソーラス用語： 光橋架け

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： メタクリロニトリル

引用文献 (52件)：

• 1). A. R. Pawloski, C. R. Szmanda, and P. F. Nealey, SPIE, 4345 (2001) 1056
• 2). M. Shirai, T. Shinozuka, and M. Tsunooka, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999) 721.
• 3). T. Shinozuka, M. Shirai, and M. Tsunooka, Eur. Polym. J., 37 (2001) 1625.
• 4). H. Ito, H. D. Truong, M. Okazaki, D. C. Miller, N. Fender, G. Breyta, P. J. Brock, G. M. Wallraff, C. E. Larson, and R. D. Allen, SPIE, 4690 (2002) 18
• 5). B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Yu-Tsai Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, SPIE, 4690 (2002) 58.

タイトルに関連する用語 (3件)： 光酸発生剤 ,  光塩基発生剤 ,  感光性高分子