文献

J-GLOBAL ID：200902129888272334   整理番号：00A0174728

146nmの照射におけるスルホン酸発生重合体

Sulfonic Acid Generating Polymers for 146 nm Irradiation.

著者 (3件)： SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHINOZUKA T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 5  ページ： 721-724  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微細画像のための真空紫外線領域におけるレーザリソグラフィー技...

シソーラス用語： 真空紫外線 ,...

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  感光材料  (ZA03020Q) ,  気体レーザ  (BD04040E)

物質索引 (8件)： メタクリル酸メチル ,  メタクリル酸tert-ブチル ,  イソプロピリデンアミノ4-スチレンスルホナート ,  [(1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1-イリデン)アミノ]4-スチレンスルホナート ,  [(9H-フルオレン-9-イリデン)アミノ]4-スチレンスルホナート ,  4-スチレンスルホン酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル ,  4-スチレンスルホン酸1,3,3a,4,7,7a-ヘキサヒドロ-1,3-ジオキソ-4,7-メタノ-2H-イソインドール-2-イル ,  4-スチレンスルホン酸1,3-ジオキソイソインドリン-2-イル

引用文献 (9件)：

• 1). H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu and T. Ueno, "Micro- and Nanopatterning Polymers", American Chemistry Society, Washington D.C. (1998).
• 2). T. Matsuo, M. Endo, M. Shirai and M. Tsunooka, J. Photopolym. Sci. Technol., 10 (1997) 595.
• 3). M. Shirai, N. Nogi and M. Tsunooka, Reactive Functional Polym., 37 (1998) 147.
• 4). K. H. Chae, Y. J. Oh, J. Photopolym. Sci. Technol., 7 (1994) 183.
• 5). M. Shirai, T. Yamamoto and M. Tsunooka, Polym. Degrad. Stab., 63 (1999) 481.

タイトルに関連する用語 (2件)： スルホン酸 ,  重合体