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J-GLOBAL ID：200902196026589251   整理番号：01A0212544

ナノインプリントリソグラフィーに適用するための電子ビームリソグラフィーを使ったダイヤモンドモールドの作製

Preparation of Diamond Mold Using Electron Beam Lithography for Application to Nanoimprint Lithography.

著者 (8件)： TANIGUCHI J (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  TOKANO Y (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  MIYAMOTO I (Sci. Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  KOMURO M (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA H (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KOBAYASHI K (CRESTEC, Tokyo, JPN) ,  MIYAZAKI T (CRESTEC, Tokyo, JPN) ,  OHYI H (CRESTEC, Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 12B  ページ： 7070-7074  発行年： 2000年12月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題のダイヤモンドモールドを二種類のプロセスで作製した。両プ...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： インプリントリソグラフィー

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分類 (2件)： 試料技術  (BA02070O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• 1) J. Xiao, J. Garofalo, R. Cirelli and S. Vaidya: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B13</B> (1995) 2897.
• 2) H. C. Preiffer, D. E. Davies, W. A. Enichen, M. S. Gordon, T. R. Groves, J. G. Hartley, R. J. Qickle, J. D. Rockrohr, W. Stickel and E. V. Webber: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B11</B> (1993) 2332.
• 3) A. Murray, D. Colby, R. Teizel and M. Gesley: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B13</B> (1995) 2488.
• 4) K. Early, M. L. Schattenburg and H. I. Smith: Microelectron. Eng. 11 (1990) 317.
• 5) W. H. Brunger, L. M. Buchmann, M. A. Torkler and W. Finkelstein: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B12</B> (1994) 3547.

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノインプリントリソグラフィー ,  電子ビームリソグラフィー ,  ダイヤモンド ,  モールド ,  作製