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J-GLOBAL ID：200902196208876418   整理番号：02A0625602

Fourier解析を用いたカリキサレン微細パターンにおけるラインエッジ粗さの研究

Investigating Line-Edge Roughness in Calixarene Fine Patterns Using Fourier Analysis.

著者 (6件)： ISHIDA M (NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN) ,  KOBAYASHI K (NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN) ,  FUJITA J (NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN) ,  OCHIAI Y (NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN) ,  YAMAMOTO H (Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN) ,  TONO S (Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 6B  ページ： 4228-4232  発行年： 2002年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ネガトーン電子線レジスト,メチルアセトキシカリクス[n]アレ...

シソーラス用語： Fourier解析 ,...
準シソーラス用語： *カリキサレン ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• 1) T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto and S. Okazaki: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 764.
• 2) H. Namatsu, M. Nagase, T. Yamaguchi, K. Yamazaki and K. Kurihara: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>16</B> (1998) 3315.
• 3) M. Watanabe, S. Yabe, S. Machida and T. Taguchi: J. Photopolym. Sci. Technol. 12 (1999) 643.
• 4) C. Nelson, S. C. Palmateer, A. R. Forte and T. M. Lyszczarz: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>17</B> (1999) 2488.
• 5) G. W. Reynolds and J. W. Taylor: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>17</B> (1999) 334.

タイトルに関連する用語 (5件)： Fourier解析 ,  カリキサレン ,  微細パターン ,  ラインエッジ粗さ ,  研究