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J-GLOBAL ID：200902196527728855   整理番号：98A0579628

無電解銅めっきによるポーラス状皮膜の形成

Formation of the Porous Film by Electroless Copper Plating.

著者 (3件)： 藤波知之 (関東学院大 大学院) ,  KOU K (関東学院大 工) ,  本間英夫 (関東学院大 工)
資料名： エレクトロニクス実装学会誌  (Journal of Japan Institute of Electronics Packaging)
巻： 1  号： 1  ページ： 66-69  発行年： 1998年04月 
JST資料番号： S0579C  ISSN： 1343-9677  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次亜リン酸塩を還元剤とする無電解銅めっきで得られる針状皮膜を...

シソーラス用語： *無電解めっき ,...

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分類 (2件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  プリント回路  (NA05040O)

引用文献 (9件)：

• 片寄照雄. 低誘電率熱硬化型PPE樹脂. 回路実装学会誌. 1995, 10, 3, 183
• 鈴木鉄秋. 低誘電・高耐熱多層プリント配線板材料. 電子材料. 1996, 35, 10, 66
• GRAHAM, S. The Pink Ring Condition in Multilayer PCBs. Circuit World. 1990, 16, 4, 4
• 中祖昭士. NaBH_4を還元剤として用いるピンクリング抑制内層銅箔処理. 回路実装学会誌. 1996, 11, 3, 189
• 鈴木芳博. 無触媒プロセスによる銅上への無電解ニッケルめっき膜の析出機構. 表面技術. 1993, 44, 11, 950

タイトルに関連する用語 (4件)： 電解 ,  銅めっき ,  ポーラス ,  皮膜