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J-GLOBAL ID：200902196809384040   整理番号：99A0913068

イオン注入による高温,高圧状態の発生

Ultra Extreme Temperature and Pressure on Ion Implantarion.

著者 (2件)： 鈴木泰之 (三重大 工) ,  HU C (三重大 工)
資料名： 圧力技術  (Journal of High Pressure Institute of Japan)
巻： 37  号： 5  ページ： 333-339  発行年： 1999年09月25日 
JST資料番号： S0913A  ISSN： 0387-0154  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高圧発生の観点から高真空条件でのイオンビーム技術,とくにイオ...

シソーラス用語： *イオン注入 ,...

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分類 (1件)： イオンとの相互作用  (BK16070Z)

引用文献 (10件)：

• 鈴木泰之. 粒子線工学とマイクロマシン. 日本機械学会講習会. 1991, 910, 88, 35
• 鈴木泰之. 粒子線を利用したマイクロ加工. 日本機械学会誌. 1990, 93, 43
• DINES, C. J. Radiation Effects in Solids. 1957
• SATOU, M. Formation of Cubic Boron Nitride Films by Boron Evaporation and Nitrogen Ion Beam Bombardment. Jpn. J. Appl. Phys. 1983, 22, 171-172
• MICHELSON, Carol E. Effects of the implantation of oxygen, nitrogen, and carbon on the density of states of n-type hydrogenated amorphous silicon. Phys. Rev. B. 1989, 41, 1529-1541

タイトルに関連する用語 (2件)： イオン注入 ,  高圧