N<sub>2</sub>及びH<sub>2</sub>プラズマによる有機低k膜のエッチング中の表面反応

ISHIKAWA Kenji; YAMAOKA Yoshikazu; NAKAMURA Moritaka; YAMAZAKI Yuichi; YAMASAKI Satoshi; ISHIKAWA Yasushi; SAMUKAWA Seiji

文献

J-GLOBAL ID：200902203590788643 整理番号：06A0447785

N₂及びH₂プラズマによる有機低k膜のエッチング中の表面反応

Surface reactions during etching of organic low-k films by plasmas of N2 and H2

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巻： 99 号： 8 ページ： 083305-083305-6 発行年： 2006年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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