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J-GLOBAL ID：200902207863141732   整理番号：08A0425238

超熱酸素分子線によるCu(410)表面の酸化物生成の表面温度依存性

著者 (9件)： 岡田美智雄 (JST-PRESTO) ,  VATTUONE L. (ジェノア大) ,  盛谷浩右 (日本原子力研究開発機構) ,  GERBI A. (ジェノア大) ,  SAVIO L. (ジェノア大) ,  吉越章隆 (日本原子力研究開発機構) ,  寺岡有殿 (大阪大 大学院) ,  ROCCA M. (ジェノア大) ,  笠井俊夫 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 55th  号： 2  ページ： 663  発行年： 2008年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *銅 ,  *分子ビーム ,  *酸素 ,  *酸化 ,  表面温度 ,  *酸化膜 ,  酸化第一銅 ,  酸化第二銅 ,  準安定状態 ,  *X線光電子スペクトル ,  *化成皮膜

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素分子 ,  Cu ,  酸化物 ,  温度依存性