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J-GLOBAL ID:200902208142850925   整理番号:04A0890521

p型ポリシリコンゲートをもつHfベースの高kMISFETにおける酸素空格子点誘導の実効しきい値電圧シフト-理論的手法

Oxygen Vacancy Induced Substantial Threshold Voltage Shifts in the Hf-based High-K MISFET with p+poly-Si Gates -A Theoretical Approach
著者 (9件):
資料名:
巻: 43  号: 11A  ページ: L1413-L1415  発行年: 2004年11月01日 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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p型ポリシリコンゲートHfベースの金属絶縁体半導体電界効果ト...
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分類 (2件):
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トランジスタ  ,  半導体の格子欠陥 
引用文献 (16件):
  • 1) G. D. Wilk and R. M. Wallace: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 2854.
  • 2) K. Yamada: Ext. Abstr. 1986 Int. Conf. Solid State Devices and Materials, Tokyo, 1986, p. 257.
  • 3) C. Hobbs et al.: Tech. Dig. 2003 Symp. VLSI Technology, Kyoto, 2003, p. 9.
  • 4) M. Koyama, A. Kaneko, T. Ino, M. Koike, Y. Kamata, R. Iijima, Y. Kamimuta, A. Takashima, M. Suzuki, C. Hongo, S. Inumiya, M. Takayanagi and A. Nishiyama: Tech. Dig. 2002 IEEE Int. Electron Devices Meeting, San Francisco, 2002, p. 849.
  • 5) M. Takayanagi, T. Watanabe, R. Iijima, A. Kaneko, S. Inumiya, I. Hirano, K. Sekine, A. Nishiyama, K. Eguchi and Y. Tsunashima: Ext. Abstr. Int. Workshop Gate Insulator, Tokyo, 2003, p. 174.
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