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J-GLOBAL ID：200902208787771175   整理番号：04A0049877

HMDS蒸気とO₂プラズマによって処理したSiO₂表面のAFMチップでの特性化

Characterization of SiO₂ Surface Treated by HMDS Vapor and O₂ Plasma with AFM Tip.

著者 (2件)： KAWAI A (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  KAWAKAMI J (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16  号： 5  ページ： 665-668  発行年： 2003年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体表面の表面自由エネルギーとチップ-表面の相互作用力との間...

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 表面自由エネルギー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： ヘキサメチルジシラザン ,  ジヨードメタン ,  グリセロール

引用文献 (9件)：

• 1. A. Kawai et. al., Proc. 5th Inter. Symp. Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, 97-35 Paris, (1997) p536-543.
• 2. G. Binnig, C.F. Quate and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett., 56 (1986) 930.
• 3. A. Kawai and T. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001) 513.
• 4. Y. Martin and H.K. Wieckramasinghe, Appl. Phys. Lett., 50 (1987) 1455.
• 5. F.M. Fowkes, J. Adhesion., 4 (1972) 155.

タイトルに関連する用語 (7件)： HMDS ,  蒸気 ,  O2 ,  プラズマ ,  SiO2 ,  AFMチップ ,  特性化