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J-GLOBAL ID：200902209318981084   整理番号：06A0216437

酸化アルミニウムのゲート絶縁体を持つダイヤモンドを基本とする金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスターの特性評価

Characterization of diamond metal-insulator-semiconductor field-effect transistors with aluminum oxide gate insulator

著者 (9件)： HIRAMA Kazuyuki (School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  MIYAMOTO Shingo (School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  MATSUDAIRA Hiroki (School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  YAMADA Keisaku (School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  KAWARADA Hiroshi (School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  CHIKYO Toyohiro (Advanced Materials Laboratories, National Inst. for Materials Sci., 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan and ...) ,  KOINUMA Hideomi (Advanced Materials Laboratories, National Inst. for Materials Sci., 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan and ...) ,  HASEGAWA Ken (Materials and Structures Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8503, JPN) ,  UMEZAWA Hitoshi (Diamond Res. Center, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 88  号： 11  ページ： 112117-112117-3  発行年： 2006年03月13日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゲート絶縁体として酸化アルミニウムを持つ金属-絶縁体-半導体...

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,...
準シソーラス用語： 電界効果トランジスタ

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分類 (1件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化アルミニウム ,  ゲート絶縁体 ,  ダイヤモンド ,  絶縁体 ,  電界効果トランジスター ,  特性評価