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J-GLOBAL ID：200902213103144561   整理番号：05A0763826

残留ガスに曝されたHfC電界放出アレイに関する放出統計

Emission Statistics for HfC Emitter Arrays after Residual Gas Exposure

著者 (6件)： NICOLAESCU Dan (AIST, Ibaraki, JPN) ,  NAGAO Masayoshi (AIST, Ibaraki, JPN) ,  SATO Takanobu (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  FILIP Valeriu (Univ. Bucharest, Bucharest-Magurele, ROM) ,  KANEMARU Seigo (AIST, Ibaraki, JPN) ,  ITOH Junji (AIST, Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44  号： 8  ページ： 5959-5963  発行年： 2005年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 炭化ハフニウム(HfC)を被膜したシリコン(Si)エミッター...

シソーラス用語： アルゴン ,...

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分類 (1件)： 熱電子放出,電界放出  (BM09020S)

引用文献 (28件)：

• 1) T. Hirano, S. Kanemaru, H. Tanoue and J. Itoh: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) 6637.
• 2) J. Itoh and S. Kanemaru: Inf. Disp. 14 (1998) 12.
• 3) W. A. Mackie, J. L. Morrissey, C. H. Hinrichs and P. R. Davis: J. Vac. Sci. Technol. A 10 (1992) 2852.
• 4) W. A. Mackie, T. B. Xie, M. R. Matthews, B. P. Routh and P. R. Davis: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 2057.
• 5) M. R. Rakhshandehroo and S. W. Pang: IEEE Trans. Electron Devices 46 (1999) 792.

タイトルに関連する用語 (5件)： 残留ガス ,  HFC ,  電界放出アレイ ,  放出 ,  統計