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J-GLOBAL ID：200902213287888975   整理番号：09A0913730

高密度パルスプラズマ生成用高電圧大電流パルス電源の開発

Development of high voltage large current pulse power supply for high energy density pulse plasma generation

著者 (8件)： 横田達也 (平和電源) ,  坂本哲也 (平和電源) ,  林剛 (平和電源) ,  豊田光廣 (平和電源) ,  坪井仁美 (ナノテック) ,  平塚傑工 (ナノテック) ,  中森秀樹 (ナノテック) ,  行村健 (同志社大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-09  号： 53-72  ページ： 95-98  発行年： 2009年08月08日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電圧制御によリ高密度プラズマを生成するスパッタリング用大電力パルス電源を開発し,大電力パルススパッタによるDLC成膜を行った。パルス電圧を高く,もしくはパルス幅を広くするほど,アークに移行しやすい状態になった。マグネトロンスパッタリングでは困難であった高硬度で水素フリーDLC薄膜をSi,WC上に成膜できた。

シソーラス用語： *電源装置 ,  電圧制御 ,  *スパッタ蒸着 ,  *薄膜成長 ,  プラズマ密度 ,  DLC膜 ,  硬度 ,  半導体材料 ,  炭化タングステン ,  プラズマ生成
準シソーラス用語： Si基板 ,  パルス電源 ,  プラズマスパッタリング ,  *大電力パルス電源

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (6件)：

• R. Mieda, K. Yukimura, K. Azuma, H. Tamgaki, T. Okimoto: “Drawing out meatallic ions from confrontation-electrode type-High Power Pulse Sputter (HPPS) grow discharge and emission spectra on the sample holder”, The Papers of Technical Meeting, IEE JAPAN, PSTOS-120, PP111-116(2008) 三枝亮介 行村健 東欣吾 玉垣浩 沖本忠雄:「対抗電極型ハイパワーパルススパッタ (HPPS) グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル」, 電気学会研究会資料, PST-08-120, pp111-116(2008)
• 電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会:「ブラズマイオンブロセスとその応用」, オーム社, pp129-148,(2005)
• 中森秀樹 吉田仁紀 鈴木薫:「負パルスバイアスを利用したイオンビーム蒸着法によって生成したダイヤモンド状炭素膜の特性」, 電気学会論文誌A, 122巻, 3号pp. 274-280(2002)
• 中森秀樹:「DLC薄膜の制御とPSII」,月刊「IONICS」, 第25巻, 別冊1, pp. 27-35(1999)
• 麻蒔立男:「薄膜製作の基礎」, 日刊工業新聞社 (1977)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  プラズマ生成 ,  高電圧 ,  大電流 ,  パルス電源 ,  開発