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J-GLOBAL ID：200902219148046569   整理番号：09A0060566

ZnO透明導電膜の抵抗率低減に向けた誘導結合型酸素プラズマ中Zn蒸気の観察

Investigation of zinc vapor in the inductively coupled oxygen plasma for low-resistivity ZnO transparent conductive film

著者 (4件)： 佐藤直幸 (茨城大) ,  宇都浩平 (茨城大) ,  吉田善紀 (茨城大) ,  池畑隆 (茨城大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-08  号： 98-114.116-120  ページ： 99-102  発行年： 2008年12月20日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 誘導結合型放電による純酸素プラズマにZn蒸気を導入し,非加熱のパイレックスガラス上にノンドープ酸化亜鉛(ZnO)透明導電膜(TCF)を合成した。抵抗率の低減及び再現性向上のため重要なZn蒸気の制御のため,Zn蒸気を質量分析,プラズマ発光計測及びプローブ計測で調べた。Znの真空蒸発からプラズマ中の励起までにわたり,蒸発量の制御が合成膜の物性値に大きな影響を与えることが分った。

シソーラス用語： *透明導電膜 ,  誘導結合プラズマ ,  プラズマ処理 ,  酸化亜鉛 ,  金属蒸気 ,  亜鉛 ,  *プラズマ合成 ,  電気抵抗率 ,  質量分析 ,  プラズマ分光 ,  *プラズマ診断 ,  蒸発量 ,  酸素 ,  混合気体 ,  キャリア密度

分類 (1件)： 導体材料  (NA04020L)

引用文献 (9件)：

• http://home.hiroshima-u.ac.jp/er/Min_G_G3.html.
• http://www.agcc.jp/2005/databank/06_01_05.html.
• Hideaki Agura et al: “Low resistivity transparent conducting Al-doped ZnO films prepared by pulsed laser deposition”, Thin Solid Films 445 pp. 263-267(2003).
• P. A. Gould: “The resistivity and structure of chromium thin films”, Br. J. Appl. Phys.16 pp. 1481-1491(1965).
• 一杉太郎他:「TiO₂系透明導電体のスパッタ成膜技術」, 表面技術, Vol.58, p. 798(2007).

タイトルに関連する用語 (7件)： ZnO ,  透明導電膜 ,  抵抗率 ,  誘導結合 ,  酸素プラズマ ,  Zn蒸気 ,  観察