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J-GLOBAL ID：200902221666992120   整理番号：03A0830707

高周波マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の組成と機械的特性に及ぼす基板温度と酸素分圧の影響

Effects of Substrate Temperature and O₂ Gas Partial Pressure on Mechanical Properties of Alumina Films deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering

著者 (3件)： 藤山博一 (福岡工大 工) ,  李木経孝 (広島国際学院大) ,  内城憲治 (科学技術振興事業団)
資料名： 福岡工業大学エレクトロニクス研究所所報  (Reports of the Electronics Research Laboratory, Fukuoka Institute of Technology)
巻： 20  ページ： 17-26  発行年： 2003年10月31日 
JST資料番号： Y0948A  ISSN： 0911-050X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 表記の影響を研究した。アルミナ薄膜のスパッタリング速度は初期...

シソーラス用語： *アルミナ ,...
準シソーラス用語： TEM【顕微鏡】

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波マグネトロンスパッタ法 ,  アルミナ膜 ,  組成 ,  機械的特性 ,  基板温度 ,  酸素分圧