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J-GLOBAL ID：200902225123329132   整理番号：09A0134834

制約2次計画法および2次錘計画法を用いた半導体露光装置用レンズの最適調整

Optimization of Lens Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment Using Quadratically Constrained and Second Order Cone Programming

著者 (4件)： 品野勇治 (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  吉原俊幸 (キヤノン) ,  宮代隆平 (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  深川容三 (キヤノン)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 75  号： 749  ページ： 157-163  発行年： 2009年01月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 2次光学特性値まで考慮した場合,半導体露光装置のレンズ調整は凸関数の最小化問題になる。しかし,この凸関数は微分不可能な点を多数含むため,各種の勾配法が適用できない。そこで本論文では,レンズの最適調整量を算出する問題を2次制約計画問題および2次錐計画問題として定式化し,内点法を利用したソルバーで真の最適解を求めることを可能にした。また,実レンズデータを使って数値実験を行い,最適なレンズ調整量を短時間に計算できることを確認した。(著者抄録)

シソーラス用語： リソグラフィー ,  収差 ,  *最適化 ,  数理計画法 ,  内点法 ,  レンズ設計 ,  最適解 ,  *改変
準シソーラス用語： *半導体露光装置 ,  2次錘計画法 ,  制約2次計画法 ,  *レンズ調整

分類 (1件)： 光学器械要素とその材料  (QF05020K)

引用文献 (12件)：

• OKAZAKI, S. Semiconductor Lithography Technology for Beginners. 2003, 43-69
• YOSHIHARA, T. New Projection Optics and Aberration Control System for the 45-nm Node. SPIE. 2007, 6520, 652022
• FUKAGAWA, Y. Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment. Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Series C. 2006, 72, 722, 3378-3382
• SHINANO, Y. Lens System Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment. Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Series C. 2007, 73, 735, 2982-2987
• NELDER, J. A. A Simplex Method for Function Minimization. Computer Journal. 1965, 7, 308-313

タイトルに関連する用語 (6件)： 制約 ,  2次計画法 ,  錘 ,  計画 ,  露光装置 ,  レンズ