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J-GLOBAL ID：200902228103980847   整理番号：09A0996677

静電容量型小型傾斜角センサの作製

著者 (5件)： 野田大二 (兵庫県大 高度産科技研) ,  西本和史 (兵庫県大 高度産科技研) ,  三宅弘晃 (兵庫県大 高度産科技研) ,  西田諭史 (ナノクリエート) ,  服部正 (兵庫県大 高度産科技研)
資料名： 日本設備管理学会誌  (Journal of the Society of Plant Engineers Japan)
巻： 21  号： 2  ページ： 26-30  発行年： 2009年09月15日 
JST資料番号： L3298A  ISSN： 0915-5023  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ホットエンボス成形加工を用いた静電容量型小型傾斜センサを作製し,樹脂成形によるMEMSデバイスの作成技術による開発を行った。LIGAプロセスによる傾斜角センサの作製法として,リソグラフィによる金型マスタの作製,電鋳による金型の作製,ホットエンボス装置を用いた成形実験でのナノインプリントによる成形工程,成形による上部および下部電極の作製や水蒸気イオン照射を用いた直接接合,オイル注入などの傾斜角センサのパッケージング工程について説明した。センサ部の構造体の目標高さを達成したマスタ作製から金型・成形まで高精度に転写を行うことができ,良好な下部成形品を完成させた。

シソーラス用語： *MEMS ,  *マイクロマシニング ,  電鋳 ,  X線リソグラフィー ,  エンボス加工 ,  *傾斜角 ,  *センサ ,  金型 ,  プラスチック成形 ,  静電容量
準シソーラス用語： *LIGAプロセス ,  *ホットエンボス加工

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

引用文献 (5件)：

• E. W. Beker, W. Ehrfeld, A. Maner, and D. Munchmeyer: “Fabrication of Microstructures with High Aspect Ratios and Great structural Heights by Synchrotron Radiation Lithography, Galvanoforming and Plastics Molding”, Microelectron. Eng., Vol.4, No.1, pp. 35-56(1986)
• K. Idei, H. Mekaru, H. Takeda, and T. Hattori: “Precise Micro Pattern Replication by Hot Embossing”, JSME International Journal, Vol.49, No.1, pp. 69-73(2006)
• H. Ueda, H. Ueno, K. Itoigawa, and T. Hattori: “Development of Micro Capacitive Inclination Sensor”, Proceedings of the IEEE 2006 International Symposium on Micro-Nano Mechatronics and Human Science, pp. 545-550(2006)
• M. Nagakubo, H. Suzuki, and T. Hattori: “Direct Bonding between Aluminum and Silicon by the Formation of Hydrogen of Bonds”, JSME International Journal Series A, Vol.40, No4, pp. 453-458(1997)
• K. Nishimoto, N. Ishizawa, H. Ueda, D. Noda and T. Hattori: “Surface Modification and Direct Bonding of Different Materials Irradiated H2O Ion”, Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing, Vol.2, No.2, pp. 197-202(2008)

タイトルに関連する用語 (3件)： 静電容量 ,  傾斜角センサ ,  作製