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J-GLOBAL ID：200902231615576143   整理番号：04A0344265

PLD法により作製されたHfO₂薄膜のESRによる欠陥評価

著者 (5件)： 池田幸司 (大阪大) ,  多田泰三 (大阪大) ,  寒川雅之 (大阪大) ,  金島岳 (大阪大) ,  奥山雅則 (大阪大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st  号： 2  ページ： 876  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： レーザ蒸着 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無機化合物のEPR  (BM07023D)

タイトルに関連する用語 (7件)： PLD法 ,  作製 ,  HfO2 ,  薄膜 ,  ESR ,  欠陥 ,  評価