文献

J-GLOBAL ID：200902233451533823   整理番号：03A0506415

p-クロロメチル-メトキシ-カリクス[4]アレンレジストを用いたサブ10nmスケール・リソグラフィ

Sub-10-nm-Scale Lithography Using p-chloromethyl-methoxy-calix[4]arene Resist

著者 (6件)： ISHIDA M (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  FUJITA J (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  OGURA T (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  OCHIAI Y (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  OHSHIMA E (Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN) ,  MOMODA J (Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 3913-3916  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子線(EB)リソグラフィ用高解像ネガテイブ-トーン・レジス...

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： *カリキサレン

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： 5,11,17,23-テトラキス(クロロメチル)-25,26,27,28-テトラメトキシペンタシクロ[19.3.1.1^3,7.1^9,13.1^15,19]オクタコサ-1(25),3,5,7(28),9,11,13(27),15,17,19(26),21,23-ドデカエン ,  5,11,17,23,29,35-ヘキサキス(クロロメチル)-37,38,39,40,41,42-ヘキサメトキシヘプタシクロ[31.3.1.1^3,7.1^9,13.1^15,19.1^21,25.1^27,31]ドテトラコンタ-1(37),3,5,7(42),9,11,13(41),15,17,19(40),21,23,25(39),27,29,31(38),33,35-オクタデカエン

引用文献 (13件)：

• 1) Y. Nakamura, T. Sakamoto and J. S. Tsui: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 4562.
• 2) C. Joachim, J. K. Gimzewski and A. Aviram: Nature 408 (2000) 541.
• 3) E. D. Fabrizio, L. Grella, M. Baciocchi, M. Gentilia, C. Ascoli, B. Cappella, C. Frediani and P. Morales: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2892.
• 4) C. D. Gutsche: Calixarenes (The Royal Society of Chemistry, Cambridge, 1989).
• 5) J. Vicens and V. Boehmer: Calixarenes: A Versatile Class of Macrocyclic Compounds (Kluwer academic, Dordrecht, 1991).

タイトルに関連する用語 (5件)： クロロメチル ,  アレン ,  レジスト ,  サブ ,  リソグラフィ