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J-GLOBAL ID：200902234277201901   整理番号：03A0506403

微小ダイアモンドモールドを用いたナノインプリントリソグラフィによる高アスペクト比パターン作製

High Aspect Pattern Fabrication by Nano Imprint Lithography Using Fine Diamond Mold

著者 (8件)： HIRAI Y (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIDA S (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TAKAGI N (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Y (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YABE H (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  SASAKI K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  SUMITANI H (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  YAMAMOTO K (Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 3863-3866  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 10以上の大アスペクト比を持つ高アスペクト比パターンの作製を...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： ナノインプリントリソグラフィー

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstrom: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstrom: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B14</B> (1996) 4129.
• 3) Y. Hirai, S. Harada, S. Isaka, M. Okano, M. Kobayasi and Y. Tanaka: Abstr. 46th Int. Conf. Electron, Ion and Photon Beam technology and Nanofabrication (Anaheim, 2002) p. 410.
• 4) Y. Hirai, H. Okuno, S. Yoshida and Y. Tanaka: Abstr. 46th Int. Conf. Electron, Ion and Photon Beam technology and Nanofabrication (Anaheim, 2002) p. 247.
• 5) J. Taniguchi, Y. Tokano, I. Miyamoto, M. Komuro, H. Hiroshima, K. Kobayashi, T. Miyazaki and H. Ohyi: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 7070.

タイトルに関連する用語 (4件)： 微小 ,  ナノインプリントリソグラフィ ,  高アスペクト比 ,  作製