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J-GLOBAL ID：200902235136923144   整理番号：09A0236030

ナノパルスプラズマCVDにより生成した非晶質窒化ほう素膜のトライボロジー特性

Tribological Properties of Amorphous Boron Nitride Films Prepared by Nanopulse Plasma CVD

著者 (5件)： SAITO Masanori (Tokyo Inst. of Technol., Dept. of Mechanical Sci. and Eng.) ,  SAITO Masanori (JSPS Res. Fellow) ,  YASUHARA Toshiyuki (Tokyo Inst. of Technol., Dept. of Mechanical Sci. and Eng.) ,  MURAKAMI Hiroya (Tokyo Inst. of Technol., Dept. of Mechanical Sci. and Eng.) ,  OHTAKE Naoto (Nagoya Univ., Dept. of Materials, Physics and Energy Eng.)
資料名： Journal of Solid Mechanics and Materials Engineering (Web)  (Journal of Solid Mechanics and Materials Engineering (Web))
巻： 3  号： 2  ページ： 217-226 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： U0026A  ISSN： 1880-9871  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ソースガスとしてのボラン-アンモニア錯体を用いてナノパルスプラズマ化学蒸着で水素化窒化ほう素(BN:H)膜を蒸着した。Fourier変換赤外(FTIR)スペクトロスコピー,すれすれ入射角X線回折(XRD)および原子間力顕微鏡は,BN膜が平滑面および非晶質構造を有していることを示した。これら膜の表面粗さ(Ra)値は0.5nm以下であった。室温で蒸着した膜は,引かき試験で測定したが,密着強さが大きかった。ボールオンディスク試験を行い,SUJ2ボールに対する蒸着膜のトライボロジー特性を評価した。300°Cおよび400°Cで蒸着したBN:H膜の摩擦係数は非常に高く,1.0を超えていた。これらBN:H膜の比摩耗率は低く,DLCの比摩耗率に近い10-7mm3/Nmのオーダーであった。蒸着BN:H膜のアニーリング試験は同膜の熱安定性を評価するために行った。蒸着したBN:H膜は大気中500°CでのDLC膜よりも熱安定性が高いことが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *窒化ホウ素 ,  非晶質 ,  *皮膜 ,  *トライボロジー ,  *プラズマCVD ,  パルス ,  ヒドロホウ素化 ,  ボラン ,  アンモニア ,  表面粗さ ,  熱安定性 ,  摩擦係数 ,  引かき試験
準シソーラス用語： ナノパルス

分類 (3件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  潤滑一般  (QB02010S) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (29件)：

• (1) P. B. Mirkarimi, K. F. McCarty, and D. L. Medlin., Review of advances in cubic boron nitride film synthesis, Material Science and Engineering R, Vol. 21, p. 47, 1997.
• (2) G. Poulachon, A. Moisan, and I. S. Jawahir., Tool-wear mechanisms in hard turning with polycrystalline cubic boron nitride tools, Wear, Vol. 250, p. 576, 2001.
• (3) O. Tsuda, K. Watanabe, and T. Taniguchi., Band-edge luminescence at room temperature of boron nitride synthesized by thermal chemical vapor phase deposition, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 46, p. L287, 2007.
• (4) X. L. Peng, Z. H. Barber, and T. W. Clyne., Surface roughness of diamond-like carbon films prepared using various techniques, Surface and Coatings Technology, Vol. 138, p. 23, 2001.
• (5) S. Matsumoto and W. Zhang., High-rate deposition of high-quality, thick cubic boron nitride films by bias-assisted DC jet plasma chemical vapor deposition, Japanese Journal of Applied Physics Part 2, Vol. 39, p. L442, 2000.

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス ,  プラズマCVD ,  非晶質 ,  窒化ほう素 ,  トライボロジー特性