誘電定数の小さいフッ素化無定形炭素膜の応用のためのC6F6/C5F8のプラズマ共重合とin situフーリエ変換赤外分光法を用いたその気相診断

SHIRAFUJI T; TSUCHINO A; NAKAMURA T; TACHIBANA K

文献

J-GLOBAL ID：200902236289422779 整理番号：04A0442463

誘電定数の小さいフッ素化無定形炭素膜の応用のためのC₆F₆/C₅F₈のプラズマ共重合とin situフーリエ変換赤外分光法を用いたその気相診断

Plasma Copolymerization of C₆F₆/C₅F₈ for Application of Low-Dielectric-Constant Fluorinated Amorphous Carbon Films and Its Gas-Phase Diagnostics Using In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy

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資料名：
巻： 43 号： 5A ページ： 2697-2703 発行年： 2004年05月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

誘導結合プラズマ増強化学蒸着(PE-CVD)によりC<sub...

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その他の無機化合物の薄膜

引用文献 (19件)：

1) International Technology Roadmap for Semiconductors 2003 Edition Interconnect (2003) p. 5.
2) M. Sekine: Appl. Surf. Sci. 192 (2002) 270.
3) R. D. Miller, R. Beyers, K. R. Carter, R. F. Cook, M. Harbison, C. J. Hawker, J. L. Hedrick, V. Lee, E. Liniger, C. Nguyen, J. Remenar, M. Sherwood, M. Trollsas, W. Volksen and D. Y. Yoon: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 565 (1999) 3.
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