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J-GLOBAL ID：200902238988578558   整理番号：06A0989971

ZnOエピタキシャル膜を成長させるための自己調節型三次元格子合致緩衝層: 同族系列の層状酸化物InGaO₃(ZnO)₅

Self-Adjusted, Three-Dimensional Lattice-Matched Buffer Layer for Growing ZnO Epitaxial Film: Homologous Series Layered Oxide, InGaO₃(ZnO)₅

著者 (10件)： KAMIYA Toshio (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  KAMIYA Toshio ,  TAKEDA Yujiro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  NOMURA Kenji ,  OHTA Hiromichi ,  OHTA Hiromichi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  YANAGI Hiroshi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  HIRANO Masahiro ,  HOSONO Hideo (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  HOSONO Hideo
資料名： Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)
巻： 6  号： 11  ページ： 2451-2456  発行年： 2006年11月 
JST資料番号： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZnOと同族層状化合物であるInGaO<sub>3</sub...

シソーラス用語： *酸化ジルコニウム ,...
準シソーラス用語： *酸化インジウムガリウム

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： ZnO ,  エピタキシャル膜 ,  成長 ,  自己調節 ,  格子 ,  緩衝層 ,  系列 ,  層状酸化物