SiF4を用いた高周波容量結合プラズマによるSi,SiF及びSiF2ラジカルとSiF4分子の測定

OHTA T; HARA K; ISHIDA T; HORI M; GOTO T; ITO M; KAWAKAMI S; ISHII N

文献

J-GLOBAL ID：200902242876630929 整理番号：03A0549715

SiF₄を用いた高周波容量結合プラズマによるSi,SiF及びSiF₂ラジカルとSiF₄分子の測定

Measurement of Si, SiF, and SiF₂ radicals and SiF₄ molecule using very high frequency capacitively coupled plasma employing SiF₄

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資料名：
巻： 94 号： 3 ページ： 1428-1435 発行年： 2003年08月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

SiF₄容量結合プラズマ(60MHz,...

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