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文献
J-GLOBAL ID:200902242899385700   整理番号:03A0692731

RFプラズマ中の酸素分圧による酸化けい素粒子の構造制御

Structural Control of Silicon Oxide Particles by Oxygen Partial Pressure in RF Plasma
著者 (6件):
資料名:
巻: 42  号: 9A  ページ: 5896-5897  発行年: 2003年09月15日
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  荷電体衝撃・放電による反応 
物質索引 (1件):
物質索引
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引用文献 (7件):
  • 1) T. Mori, K. Tanaka, T. Inomata, A. Takeda and M. Kogoma: Thin Solid Films 316 (1998) 89.
  • 2) T. Sato, Y. Saito and C. Kaito: to be published in Surf. Rev. Lett. (2003).
  • 3) T. Morioka, S. Kimura, N. Tsuda, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Mon. Not. R. Astron. Soc. 299 (1998) 78.
  • 4) T. Morioka, S. Kimura, N. Tsuda, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Antarct. Meteorite Res. 10 (1997) 449.
  • 5) N. Suzuki, S. Kimura, T. Nakada, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Meteoritics Planetary Sci. 35 (2000) 1269.
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タイトルに関連する用語 (4件):
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