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J-GLOBAL ID：200902242899385700   整理番号：03A0692731

RFプラズマ中の酸素分圧による酸化けい素粒子の構造制御

Structural Control of Silicon Oxide Particles by Oxygen Partial Pressure in RF Plasma

著者 (6件)： SATO T (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  TAKEDA A (ISI. Ltd., Saitama, JPN) ,  KIMURA Y (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  SUZUKI H (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  SAITO Y (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN) ,  KAITO C (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 9A  ページ： 5896-5897  発行年： 2003年09月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(C₂H₅O...

シソーラス用語： *RF放電 ,...
準シソーラス用語： 酸素分圧

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  荷電体衝撃・放電による反応  (CB06020R)

物質索引 (1件)： テトラエトキシシラン

引用文献 (7件)：

• 1) T. Mori, K. Tanaka, T. Inomata, A. Takeda and M. Kogoma: Thin Solid Films 316 (1998) 89.
• 2) T. Sato, Y. Saito and C. Kaito: to be published in Surf. Rev. Lett. (2003).
• 3) T. Morioka, S. Kimura, N. Tsuda, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Mon. Not. R. Astron. Soc. 299 (1998) 78.
• 4) T. Morioka, S. Kimura, N. Tsuda, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Antarct. Meteorite Res. 10 (1997) 449.
• 5) N. Suzuki, S. Kimura, T. Nakada, C. Kaito, Y. Saito and C. Koike: Meteoritics Planetary Sci. 35 (2000) 1269.

タイトルに関連する用語 (4件)： RFプラズマ ,  酸素分圧 ,  酸化けい素 ,  構造制御