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J-GLOBAL ID：200902244209824688   整理番号：06A0530863

光感受性チタン錯体からの二酸化チタンのポジ及びネガ型フォトリソグラフィー蒸着

Positive and Negative Photolithographic Deposition of Titanium Dioxide from Photosensitive Titanium Complexes

著者 (2件)： ZHANG Xin (Simon Fraser Univ., British Columbia, CAN) ,  HILL Ross H. (Simon Fraser Univ., British Columbia, CAN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 19  号： 4  ページ： 477-486  発行年： 2006年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報では,光化学有機金属蒸着を用いるチタン(IV)錯体からの...

シソーラス用語： *チタン錯体 ,...
準シソーラス用語： VOC【化合物】 ,...

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U)

物質索引 (8件)： 2,4-ペンタンジオン ,  2-エチル-2-ヒドロキシ酪酸 ,  2-エチルヘキサン酸 ,  アセト酢酸エチル ,  チタン酸イソプロピル ,  チタン酸テトラブチル ,  ビス(2-エチルヘキサン酸)=ジブトキシチタン(IV) ,  ビス(2-ヒドロキシ酪酸)=ジブトキシチタン(IV)

引用文献 (22件)：

• M. D. Stamate, Thin Solid Films.372(2000), 246-249
• J. Zhang, J. S. Yuan, Y. Ma and A. S. Oates, Solid-State Electronics.44(2000), 2165-2170
• N. Kaliwoh, J-Y. Zhang and I. W. Boyd, Appl. Sur. Sci.186(2002), 241-245
• A. Rahtu, M. Ritala and M. Leskell, Chem. Mater.13(5)(2001), 1528-1532
• A. Fujishima, T. N. Rao, and D. A. Tryk, J. Photochem. Photobio. C: Photochemistry Reviews.1(2000), 1-21

タイトルに関連する用語 (6件)： 光感受性 ,  チタン錯体 ,  二酸化チタン ,  ネガ ,  フォトリソグラフィー ,  蒸着