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J-GLOBAL ID：200902245956334939   整理番号：03A0728332

rf反応性スパッタリングにより作製したZr-Si-N膜の微細構造及び機械的性質に及ぼすスパッタリング条件の影響

Influence of sputtering conditions on microstructure and mechanical properties of Zr-Si-N films prepared by radio-frequency-reactive sputtering

著者 (5件)： ZHOU M (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Takaoka, JPN) ,  DEGUCHI Y (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  MAE T (Toyama National Coll. Technol., Toyama, JPN) ,  NOGI K (Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 21  号： 5  ページ： 1791-1795  発行年： 2003年09月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZrN及びZrSiN膜を対向ターゲット対をもつrfスパッタリ...

シソーラス用語： *ジルコニウム化合物 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (8件)： RF ,  反応性スパッタリング ,  作製 ,  Zr ,  Si ,  微細構造 ,  機械的性質 ,  スパッタリング