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J-GLOBAL ID：200902246110416629 整理番号：04A0098350

光橋かけ-インプリントリソグラフィーによる三層レジストの作製

Fabrication of trilayer resist using photocuring-imprint lithography

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巻： 21 号： 6 ページ： 3144-3148 発行年： 2003年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

トップ面が平滑でエッジ粗さの低い微細三層レジスト構造(光橋か...

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固体デバイス製造技術一般 , その他の高分子の反応

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