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J-GLOBAL ID：200902258693940000   整理番号：06A0548730

三ふっ化塩素ガスを使用した多結晶β-シリコンカーバイドのエッチング速度及び表面モルホロジー

Etch rate and surface morphology of polycrystalline β-silicon carbide using chlorine trifluoride gas
著者 (6件)：
HABUKA Hitoshi

HABUKA Hitoshi について

(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)

Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN について

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ODA Satoko

ODA Satoko について

(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)

Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN について

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FUKAI Yasushi

FUKAI Yasushi について

(R and D Dep., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1-2-1 Marunouchi, Chiyoda, Tokyo 100-0005, JPN)

R and D Dep., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1-2-1 Marunouchi, Chiyoda, Tokyo 100-0005, JPN について

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FUKAE Katsuya

FUKAE Katsuya について

(Shibukawa Lab., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1497 Shibukawa, Gunma 377-8513, JPN)

Shibukawa Lab., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1497 Shibukawa, Gunma 377-8513, JPN について

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TAKEUCHI Takashi

TAKEUCHI Takashi について

(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)

Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN について

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AIHARA Masahiko

AIHARA Masahiko について

(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)

Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN について


資料名：
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

Thin Solid Films について


巻： 514  号： 1-2  ページ： 193-197  発行年： 2006年08月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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シソーラス用語：
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*炭化ケイ素

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エッチング速度

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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ふっ化塩素

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多結晶

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シリコンカーバイド

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エッチング速度

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表面モルホロジー

表面モルホロジー について


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