電子ビーム励起プラズマによるシリコン酸化物エッチングプロセス

ITO M; TAKEDA K; SHIINA T; OKAMURA Y; NAGAI H; HORI M; GOTO T

文献

J-GLOBAL ID：200902265708957610 整理番号：04A0365105

電子ビーム励起プラズマによるシリコン酸化物エッチングプロセス

Silicon-oxide etching process employing an electron-beam-excited plasma

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ITO M

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TAKEDA K

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資料名：

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

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巻： 22 号： 2 ページ： 543-547 発行年： 2004年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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電子ビーム励起プラズマによる酸化けい素(SiO<sub>2<...

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