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J-GLOBAL ID：200902266574792659   整理番号：09A1129490

巨大アルゴンクラスタイオンビームを用いた二次イオン質量分析による有機半導体材料の多層構造の分子深さプロフィリング

Molecular depth profiling of multilayer structures of organic semiconductor materials by secondary ion mass spectrometry with large argon cluster ion beams

著者 (11件)： NINOMIYA Satoshi (Kyoto Univ., Uji, JPN) ,  NINOMIYA Satoshi (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  ICHIKI Kazuya (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YAMADA Hideaki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKATA Yoshihiko (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SEKI Toshio (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SEKI Toshio (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  AOKI Takaaki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  AOKI Takaaki (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  MATSUO Jiro (Kyoto Univ., Uji, JPN) ,  MATSUO Jiro (JST-CREST, Tokyo, JPN)
資料名： Rapid Communications in Mass Spectrometry  (Rapid Communications in Mass Spectrometry)
巻： 23  号： 20  ページ： 3264-3268  発行年： 2009年10月 
JST資料番号： T0695A  ISSN： 0951-4198  CODEN： RCMSEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 巨大アルゴンクラスタイオンビームを使用した飛行時間型二次イオン質量分析で多層有機半導体材料の分子深さプロフィリングを行った。トリス(8-ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq₃)と4,4′-ビス[N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ]ビフェニル(NPD)から成る多層構造試料を4~5nA,0.2~0.4mm,5.5keVのAr₇₀₀イオンビームで衝撃した。発生したAlq₂⁺(m/z315)とNPD⁺(m/z589)信号を検出し,分子深さプロファイルを得た。ITO/Alq₃(100nm)/NPD(100nm),Si/NPD(40nm)/Alq₃(80nm)/NPD(40nm)及びSi/Alq₃(20nm)/NPD(120nm)試料のフルエンス-信号強度曲線で界面が明確に識別できた。ITO/Alq₃(100nm)/NPD(100nm)試料の100,120及び150°Cでの焼なましによる両有機半導体分子の拡散に対する温度効果も調べた。熱拡散挙動は材料に依存し,Alq₃分子の拡散はNPD分子より低温(120°C)から開始した。巨大ガスクラスタイオンビームは有機多層構造の深さプロファイリング分析に適し,ライフサイエンス分野の研究に有効と考えられる。

シソーラス用語： *有機半導体 ,  *積層構造 ,  酸化インジウムスズ ,  *深さプロフィル ,  *二次イオン質量分析 ,  飛行時間法 ,  *アルゴンビーム ,  焼なまし ,  熱拡散 ,  温度依存性 ,  深さ分析 ,  質量スペクトル ,  アルミニウム錯体 ,  イオンビームスパッタリング ,  界面
準シソーラス用語： 飛行時間二次イオン質量分析 ,  固固界面

分類 (2件)： 有機化合物の物理分析  (CC03034A) ,  発光素子  (NC03082G)

物質索引 (2件)： トリス(8-ヒドロキシキノリン)アルミニウム ,  4,4′-ビス[(1-ナフチル)(フェニル)アミノ]-1,1′-ビフェニル

タイトルに関連する用語 (7件)： アルゴン ,  クラスタイオンビーム ,  二次イオン質量分析 ,  有機半導体材料 ,  多層構造 ,  分子 ,  深さプロフィリング