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J-GLOBAL ID：200902268170820643   整理番号：03A0508991

i-ライン及びg-ラインに感受性のある光酸発生剤の合成ならびにそれらのフォトポリマシステムへの適用

Synthesis of i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photopolymer Systems

著者 (5件)： IWASHIMA C (Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  IMAI G (Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16  号： 1  ページ： 91-96  発行年： 2003年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： i-ライン(365nm)及びg-ライン(436nm)波長の紫...

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,...
準シソーラス用語： *光橋架け ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： トリフルオロメタンスルホン酸1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-2H-ベンゾ[de]イソキノリン-2-イル ,  ノナフルオロブタン-1-スルホン酸1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-2H-ベンゾ[de]イソキノリン-2-イル ,  ヘプタデカフルオロオクタン-1-スルホン酸1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-2H-ベンゾ[de]イソキノリン-2-イル ,  ノナフルオロブタン-1-スルホン酸1,3,6-トリオキソ-1,2,3,6-テトラヒドロ[1]ベンゾチオピラノ[2,3-e]イソインドール-2-イル ,  ノナフルオロブタン-1-スルホン酸1,3,6-トリオキソ-8-イソプロピル-1,2,3,6-テトラヒドロ[1]ベンゾチオピラノ[2,3-e]イソインドール-2-イル

引用文献 (12件)：

• 1. M. Shirai, M. Tsunooka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 71 (1998) 2483.
• 2. F.M. Houlihan, E. Chin, O. Nalamasu, J.M. Kometani, T.X. Neenan, A. Pangborn, Proc. SPIE., 2195 (1994) 137.
• 3. M.L. Schilling, H.E. Katz, F.M. Houlihan, J.M. Kometani, S.M. Stein, O. Nalamasu Proc. SPIE., 2195 (1994) 182.
• 4. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 17 (1979) 1047.
• 5. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 17 (1979) 1059.

タイトルに関連する用語 (3件)： 感受性 ,  光酸発生剤 ,  フォトポリマ