文献

J-GLOBAL ID：200902270203477600   整理番号：07A0478889

透過と反射のデータから得たSi基板上のβ-FeSi₂膜の光学定数とUrbachテイルの起源

Optical Constants of β-FeSi₂ Film on Si Substrate Obtained from Transmittance and Reflectance Data and Origin of Urbach Tail

著者 (5件)： KAKEMOTO Hirofumi (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  HIGUCHI Tohru (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  SHIBATA Hajime (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  WADA Satoshi (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TSURUMI Takaaki (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 4B  ページ： 2405-2408  発行年： 2007年04月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(001)基板上にFe源を用いてβ-FeSi<sub>2...

シソーラス用語： *光学定数 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0478889&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (10件)：

• M. C. Bost and J. E. Mahan: J. Appl. Phys.58(1985)2696.
• S. Mantl: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 84(1994)127.
• C. A. Dimitriadis, J. H. Werner, S. Logothetidis, M. Stutzmann, J. Weber, and R. Nesper: J. Appl. Phys.68(1990)1726.
• A. B. Filonov, D. B. Migas, V. L. Shaposhnikow, N. N. Dorozhkin, G. V. Petrov, V. E. Borisenko, W. Henrion, and H. Lange: J. Appl. Phys.79(1996)7708.
• N. E. Christensen: Phys. Rev. B 42(1990)7148.

タイトルに関連する用語 (4件)： Si基板 ,  光学定数 ,  テイル ,  起源