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文献
J-GLOBAL ID:200902271355775416   整理番号:08A0837819

K-BミラーによるX線自由電子レーザー集光システムの開発-大型X線集光ミラーの作製-

著者 (15件):
資料名:
巻: 2008  ページ: 15-16  発行年: 2008年07月22日 
JST資料番号: L6024A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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現在,第3世代大型放射光施設SPring-8に代わる次世代の放射光光源として,XFEL(X線自由電子レーザー)の開発が急ピッチで進められている。XFELは,空間的コヒーレンス,ピーク輝度ともに現行の大型放射光施設を大幅に上回る性能を実現すると言われている。本研究では,XFELという優れたX線を集光することにより,より高輝度で微小なビームを実現し,さらなるX線分析の発展,新規研究分野の開拓を目指している。XFEL集光の光学系として楕円形状のミラーを2枚用いるK-Bミラー光学系を用いた。XFELを集光することにより,結晶化していないナノサイズの分子構造解析やX線領域における強光子場物理の開拓が期待される。本研究では400mmにわたる大型ミラーをP-V2nm程度の形状精度で作製し,設計値通りの75nmの半値幅を得ることができた。これより,加工装置,計測装置ともに400mmにわたり必要な精度があることを実証できた。今後,SPring-8など従来のX線光源向けに長焦点,大開口のミラーを作製するなど実用に役立つことが期待されることを述べた。
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