フォトナノインプリントリソグラフィーにおけるドライエッチングでの光硬化ポリマのパターン収縮率と粗さの減少

文献

J-GLOBAL ID：200902279597479430 整理番号：04A0543851

Reducing Photocurable Polymer Pattern Shrinkage and Roughness during Dry Etching in Photo-Nanoimprint Lithography

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資料名：
巻： 43 号： 6B ページ： 4022-4026 発行年： 2004年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

光硬化ポリマをフォトナノインプリントリソグラフィーに適用する...

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固体デバイス製造技術一般

引用文献 (16件)：

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