新しい水溶性樹脂とそのマスク製造用のネガ及びポジ型EBレジストへの利用

文献

J-GLOBAL ID：200902282311295907 整理番号：04A0512713

New Aqueous-base Soluble Resin and Its Applicationto Negative and Positive Tone EB Resists for Mask-making

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資料名：
巻： 17 号： 4 ページ： 575-580 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

248-nm波長を有するフォトマスク材料シェージング用に,ナ...

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固体デバイス製造技術一般 , 重縮合 , 芳香族単環フェノール類・多価フェノール

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引用文献 (6件)：

1. M. Nakase, T. Naito, K. Asakawa, A. Hongu, N. Shida, and T. Ushirogouchi, Proc. SPIE, 2438 (1995) 445.
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3. A. Zampini, P. Turci, G. J. Cernigliaro, H. F. Sandford, G. J. Swanson, C. C. Meister, and R. Sinta, Proc. SPIE, 1262 (1990) 501.
4. (a) K. Kojima, S. Uchino, N. Asai, T. Ueno, Chem. Mater., 8 (1996) 2433.
(b) S. Uchino, J. Yamamoto, S. Migitaka, K. Kojima, M. Hashimoto, F. Murai, and H. Shiraishi, J. Photopolym. Sci. Technol., 11 (1998) 555.

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