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J-GLOBAL ID:200902283628611088   整理番号:09A0060405

パルスレーザ蒸着によって作成したY5V膜コンデンサにおける静電容量の温度係数の改良

Improvement of Temperature Coefficient of Capacitance in Y5V Film Capacitor Prepared by Pulsed Laser Deposition
著者 (5件):
資料名:
巻: 45  号:ページ: 229-235  発行年: 2008年12月20日 
JST資料番号: G0788A  ISSN: 1347-4774  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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エキシマレーザを用いたKrFパルスレーザ蒸着によって973Kの温度においてY5V焼結ターゲットを用いて1および10Paの気体圧力のO2-O3雰囲気中で,200nmの厚さの薄膜コンデンサをSrTiO3(100),(110)および(111)単結晶上に作成した。その結果,ペロブスカイトBa(Zr,Ti)O3固溶体膜が得られた。SrTiO3(100),(110)および(111)上のY5V膜において,それぞれ,BaTiO3 {100},{110}および{111}からのものと殆ど同じ位置にある回折ピークだけが観察された。4nmの厚さの初期ホモエピタキシャルSrTiO3層を挿入することによって,Y5V膜は基板の結晶面方向に高度に配向して成長した。誘電定数は<111>の成長方向において増大した。この方向において,格子歪は最大であった。静電容量の温度係数(TCC)は格子歪がより小さい時,Y5Vセラミックに対する値よりも小さくなった。Y5V/SrTiO3膜コンデンサは60mF/mm3の高い体積効率を与えた。Y5V/SrTiO3膜コンデンサの体積効率は商用Y5VMLCCの3倍であった。気体圧力を制御することによって,TCCは改良されて平坦になった。(翻訳著者抄録)
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LCR部品  ,  酸化物薄膜 
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