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J-GLOBAL ID：200902286663390603   整理番号：05A0427238

HfO₂膜中欠陥の第一原理計算による解析

著者 (5件)： 寒川雅之 (大阪大 大学院) ,  吉田真人 (大阪大 大学院) ,  松本淳也 (大阪大 大学院) ,  金島岳 (大阪大 大学院) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 52nd  号： 2  ページ： 903  発行年： 2005年03月29日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ハフニウム ,...
準シソーラス用語： 禁止帯

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分類 (1件)： 不純物・欠陥の電子構造  (BM02100I)

タイトルに関連する用語 (4件)： HfO2 ,  欠陥 ,  第一原理計算 ,  解析