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J-GLOBAL ID：200902290760212067   整理番号：04A0021016

rfスパッタリングにより形成したCr-B,Cr-B-Nおよび多層Cr-B/Cr-B-N薄膜の組織および性質

Structure and properties of Cr-B, Cr-B-N and multilayer Cr-B/Cr-B-N thin films prepared by r.f.-sputtering

著者 (6件)： SAKAMOTO Y (Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Takaoka, JPN) ,  MAE T (Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN) ,  HONBO E (Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN) ,  ZHOU M (Osaka Univ., Mihogaoka, JPN) ,  NOGI K (Osaka Univ., Mihogaoka, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 174/175  ページ： 444-449  発行年： 2003年09月 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siウエハ上にrfプラズマ支援マグネトロンスパッタリングによ...

シソーラス用語： ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 微細組織

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分類 (2件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (6件)： RFスパッタリング ,  Cr ,  多層 ,  薄膜 ,  組織 ,  性質