文献

J-GLOBAL ID：200902291477005329   整理番号：04A0211779

Ar/H₂O中でのパルス放電におけるOHラジカル密度の減衰特性の研究

Study on Decay Characteristics of OH Radical Density in Pulsed Discharge in Ar/H₂O

著者 (3件)： TOCHIKUBO F (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN) ,  UCHIDA S (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN) ,  WATANABE T (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 1  ページ： 315-320  発行年： 2004年01月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス放電中に発生するOHラジカルについて,時間分解二次元分...

シソーラス用語： *パルス放電 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0211779&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (2件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  可視・紫外スペクトル一般(分子)  (BH06041V)

引用文献 (18件)：

• 1) A. Ershov and J. Borysow: J. Phys. D 28 (1995) 68.
• 2) R. Ono and T. Oda: IEEE Trans. Ind. Appl. 37 (2001) 709.
• 3) R. Ono and T. Oda: J. Phys. D 35 (2002) 2133.
• 4) C. Hibert, I. Gaurand, O. Motret and J. M. Pouvesle: J. Appl. Phys. 85 (1999) 7070.
• 5) F. Tochikubo and T. Watanabe: Proc. 7th Int. Symp. High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Greifswald, 2000, p. 219.

タイトルに関連する用語 (7件)： Ar ,  H2O ,  パルス放電 ,  OHラジカル ,  密度 ,  減衰特性 ,  研究