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J-GLOBAL ID：200902292568314967   整理番号：03A0538649

Mo仕事関数シフトへの窒素プロファイルの影響

Influence of Nitrogen Profile on Mo Workfunction

著者 (4件)： 日野真毅 (広島大 ナノデバイスシステム研セ) ,  天田高明 (広島大 ナノデバイスシステム研セ) ,  前田展秀 (広島大 ナノデバイスシステム研セ) ,  芝原健太郎 (広島大 ナノデバイスシステム研セ)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 103  号： 148(SDM2003 50-61)  ページ： 49-52  発行年： 2003年06月26日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Moゲートの仕事関数制御技術の研究として,窒素注入を用いる方...

シソーラス用語： モリブデン ,...

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分類 (1件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

引用文献 (10件)：

• CHATTERJEE, A. Technical Digest of IEEE Int. Electron Devices Meeting. 1998, 777-780
• YAGISHITA, A. IEEE Trans. Electron Devices. 2001, 48, 1604-1611
• RANADE, P. Symposium Proceedings, Mat. Res. Soc. Proc. 2001, 611, C3.2.1-C3.2.6
• LU, Qiang. Digest of Symp. on VLSI Tech. 2001, 45-46
• RANADE, P. Symposium Proceedings, Mat. Res. Soc. Proc. 2001, 670, K5.2.1-K5.2.6

タイトルに関連する用語 (5件)： Mo ,  仕事関数 ,  シフト ,  窒素 ,  プロファイル