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J-GLOBAL ID：200902298208370660   整理番号：03A0506385

フーリエ解析と自己相関関数によるレジストパターンのラインエッジ粗さの特性評価

Characterization of Line Edge Roughness in Resist Patterns by Using Fourier Analysis and Auto-Correlation Function

著者 (2件)： YAMAGUCHI A (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN) ,  KOMURO O (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 3763-3770  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子線(EB)用,KrF用とArF用のレジストにおけるライン...

シソーラス用語： 自己相関関数 ,...
準シソーラス用語： フリッカ雑音 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• 1) C. H. Diaz, H. Tao, Y. Ku, A. Yen and K. Young: IEEE Electron Device Lett. 22 (2001) 287.
• 2) For example, S. Mori, T. Morisawa, N. Matsuzawa, Y. Kaimoto, M. Endo, T. Matsuo, K. Kuhara and M. Sasago: J. Vac. Sci. Technol. B16 (1998) 3739.
• 3) E. W. Scheckler, S. Shukuri and E. Takeda: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 327.
• 4) T. Yoshimura, J. Yamamoto, H. Shiraishi, S. Uchino, T. Terasawa, F. Murai and S. Okazaki: J. Photopolym. Sci. Technol. 10 (1997) 629.
• 5) M. Ishida, K. Kobayashi, J. Fujita, Y. Ochiai, H. Yamamoto and S. Tono: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4228.

タイトルに関連する用語 (5件)： フーリエ解析 ,  自己相関関数 ,  レジストパターン ,  ラインエッジ粗さ ,  特性評価