特許
J-GLOBAL ID:200903000022640173

深紫外レーザー光の発生方法および深紫外レーザー装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上島 淳一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-271429
公開番号(公開出願番号):特開2007-086108
出願日: 2005年09月20日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】深紫外域の波長の深紫外レーザー光を効率よく発生させ、高出力化する。【解決手段】1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、上記第4高調波と1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、上記和周波発生により発生したレーザー光と上記1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、上記1μm帯とは1063〜1065nmであり、上記1.4〜1.5μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、前記第4高調波と1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、前記和周波発生により発生したレーザー光と前記1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、 前記1μm帯とは1063〜1065nmであり、前記1.4μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する ことを特徴とする深紫外レーザー光の発生方法。
IPC (2件):
G02F 1/37 ,  H01S 3/109
FI (2件):
G02F1/37 ,  H01S3/109
Fターム (14件):
2K002AB12 ,  2K002BA04 ,  2K002CA02 ,  2K002DA01 ,  2K002HA20 ,  5F172AE13 ,  5F172AF03 ,  5F172AM08 ,  5F172EE13 ,  5F172NQ64 ,  5F172NR22 ,  5F172NR24 ,  5F172ZZ01 ,  5F172ZZ02
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 光源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-315087   出願人:株式会社ニコン
  • 光源装置及び光照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-189435   出願人:株式会社ニコン
  • レーザ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-258126   出願人:株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
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審査官引用 (3件)
  • 光源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-315087   出願人:株式会社ニコン
  • 光源装置及び光照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-189435   出願人:株式会社ニコン
  • レーザ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-258126   出願人:株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • レーザ工学入門, 19970801, pp.220-222

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