特許
J-GLOBAL ID：200903000022640173
深紫外レーザー光の発生方法および深紫外レーザー装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上島 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-271429
公開番号（公開出願番号）：特開2007-086108
出願日： 2005年09月20日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】深紫外域の波長の深紫外レーザー光を効率よく発生させ、高出力化する。【解決手段】1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、上記第4高調波と1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、上記和周波発生により発生したレーザー光と上記1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、上記1μm帯とは1063〜1065nmであり、上記1.4〜1.5μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、前記第4高調波と1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、前記和周波発生により発生したレーザー光と前記1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、
前記1μm帯とは1063〜1065nmであり、前記1.4μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する
ことを特徴とする深紫外レーザー光の発生方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2K002AB12
, 2K002BA04
, 2K002CA02
, 2K002DA01
, 2K002HA20
, 5F172AE13
, 5F172AF03
, 5F172AM08
, 5F172EE13
, 5F172NQ64
, 5F172NR22
, 5F172NR24
, 5F172ZZ01
, 5F172ZZ02
審査官引用 (3件)
-
光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-315087
出願人：株式会社ニコン
-
光源装置及び光照射装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-189435
出願人：株式会社ニコン
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レーザ装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-258126
出願人：株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社
引用文献：
審査官引用 (1件)
-
レーザ工学入門, 19970801, pp.220-222
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