特許
J-GLOBAL ID:200903000136156751
一級アミンの製造方法および一級アミン製造用触媒
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-195982
公開番号(公開出願番号):特開2008-063326
出願日: 2007年07月27日
公開日(公表日): 2008年03月21日
要約:
【課題】縮合生成物を与える副反応を抑制して高い収率でニトリルから一級アミンを製造する方法を提供する。 【解決手段】ニッケル、コバルトおよび鉄から選ばれる一種以上の金属を含有する水素化触媒を炭化水素化合物、天然ガス、アルコール、エーテル、エステル、および一酸化炭素から選ばれる少なくとも一種の処理剤を用いて150〜500°Cで前処理して前処理水素化触媒を得る工程、および、該前処理水素化触媒の存在下で水素とニトリルを反応させる工程を含む一級アミンの製造方法、ならびに該一級アミン製造用触媒。 【選択図】 なし
請求項(抜粋):
ニッケル、コバルトおよび鉄から選ばれる一種以上の金属を含有する水素化触媒を炭化水素化合物、天然ガス、アルコール、エーテル、エステル、および一酸化炭素から選ばれる少なくとも一種の処理剤を用いて150〜500°Cで前処理して前処理水素化触媒を得る工程、および、該前処理水素化触媒の存在下で水素とニトリルを反応させる工程を含む一級アミンの製造方法。
IPC (5件):
C07C 209/48
, C07C 211/27
, B01J 21/16
, B01J 25/02
, B01J 37/00
FI (5件):
C07C209/48
, C07C211/27
, B01J21/16 Z
, B01J25/02 Z
, B01J37/00 Z
Fターム (47件):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169AA14
, 4G169BA09B
, 4G169BA21C
, 4G169BB01C
, 4G169BB03B
, 4G169BC31B
, 4G169BC58B
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BD02C
, 4G169BD04C
, 4G169BE02C
, 4G169BE06C
, 4G169BE07C
, 4G169BE09C
, 4G169CB25
, 4G169CB77
, 4G169DA05
, 4G169EA02Y
, 4G169FA01
, 4G169FA08
, 4G169FB06
, 4G169FB09
, 4G169FB14
, 4G169FB30
, 4G169FB64
, 4G169FC04
, 4G169FC07
, 4G169FC08
, 4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA19
, 4H006BA20
, 4H006BA21
, 4H006BA30
, 4H006BA61
, 4H006BA81
, 4H006BE20
, 4H039CA71
, 4H039CB90
, 4H039CF40
引用特許:
出願人引用 (13件)
-
特開平7-518900号公報
-
一級アミンの製造方法および接触還元用触媒
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-129904
出願人:川研ファインケミカル株式会社
-
米国特許出願公開2005/0159624号明細書
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審査官引用 (9件)
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