特許

J-GLOBAL ID：200903080478679431

多重周波数プラズマ・エッチング反応装置

発明者： ジーンジャ ラジンダー ,  サジャディ エスエム レーザ ,  コザケビッチ フェリックス ,  トルーセル デイブ ,  リー ルーミン ,  レンツ エリック ,  ルスー カメリア ,  スリニバサン ムクンド ,  エップラー アーロン ,  ティーツ ジム ,  マークス ジェフリー
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレーション
代理人 (1件)： 吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-524748
公開番号（公開出願番号）：特表2007-503724
出願日： 2004年08月20日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

いくつかの周波数でプラズマを励起し、それによってそのいくつかの周波数によるプラズマの励起がプラズマ中でいくつかの異なる現象を同時に発生させることにより、加工物が真空プラズマ処理チャンバ内のプラズマで処理される。チャンバは、RFによって電力供給され、またはプラズマ励起周波数のうちの少なくとも1つを他の周波数を除外して通過させるフィルタ構成によって基準電位に接続される中央の頂部電極および底部電極ならびに周辺の頂部および/または底部電極構成を含む。

請求項（抜粋）：

真空プラズマ処理チャンバ内で加工物をプラズマで処理する方法であって、いくつかの周波数の電気エネルギーで前記プラズマを励起し、それによって前記いくつかの周波数による前記プラズマの励起が前記プラズマ中でいくつかの異なる現象を同時に発生させるステップを含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L21/302 101B ,  H05H1/46 M

Fターム (15件)：

5F004BA04 ,  5F004BA05 ,  5F004BA06 ,  5F004BA07 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB12 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004CA05 ,  5F004CA07 ,  5F004CA08

引用特許：

審査官引用 (6件)

• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045275   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-212027   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-076354   出願人：株式会社東芝
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-263201   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-329421   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-128481   出願人：株式会社日立製作所