特許

J-GLOBAL ID：200903000211205240

蛍光X線分析装置

発明者： 鎌田 繁生
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-013082
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214166
出願日： 2001年01月22日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】 試料から発生する蛍光X線の測定強度等の分布を求める蛍光X線分析装置において、分布測定の分解能が十分でかつ迅速な測定のできる装置を提供する。【解決手段】 試料1 における1次X線4 が照射される範囲P 内の相異なる測定部分2A, ...ごとに設けられ、対応する測定部分から発生する蛍光X線5A, ...の強度を測定する複数の検出手段6A, ...を備える。

請求項（抜粋）：

試料に1次X線を照射して、発生する蛍光X線の測定強度またはこれに基づく分析値の分布を求める蛍光X線分析装置において、試料における1次X線が照射される範囲内の相異なる測定部分ごとに設けられ、対応する測定部分から発生する蛍光X線の強度を測定する複数の検出手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/223 ,  G21K 5/02

FI (2件)：

G01N 23/223 ,  G21K 5/02 X

Fターム (20件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001DA10 ,  2G001GA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA06 ,  2G001JA08 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001KA11 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA12

引用特許：

審査官引用 (5件)

• X線分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-195944   出願人：理学電機工業株式会社
• 特開平3-282243
  
• 蛍光X線分析方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-232310   出願人：理学電機工業株式会社
• 蛍光X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-032971   出願人：理学電機工業株式会社
• 特開平3-282243