特許
J-GLOBAL ID：200903000245456722

光学素子の面間の位置関係を測定する方法および装置および同装置に用いる光学素子を保持する保持具

発明者：
熊谷 俊樹

熊谷 俊樹 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268309
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097684
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】特に自由曲面を持つ光学素子の複数の面の相互の相対的な位置関係を測定し得る方法を提供する。【解決手段】光学面50aを上にして治具200を補助治具110の上に置く。3次元形状測定機により光学面50aを測定するとともに、三つの球体230を測定して光学面50a測定時の基準座標系を求める。続いて、治具200を裏返し、光学面50bを上にする。3次元形状測定機により光学面50bを測定するとともに、三つの球体230を測定して光学面50b測定時の基準座標系を求める。二つの基準座標系に基づいて光学面50aの形状データと光学面50bの形状データを同じ座標系に変換する。光学面50aと50bの形状データを設計式とフィッティングして光学面50aと50bの面座標を求める。求めた面座標に基づいて光学面50aと50bの位置関係を求める。
請求項（抜粋）：
3次元形状測定機を用いて光学素子の面間の位置関係を求める方法であって、前記3次元形状測定機を用いて前記光学素子の第1の面の形状を測定する第1の面形状測定工程と、前記第1の面形状測定工程における第1の基準座標系を測定する第1の基準座標系測定工程と、前記3次元形状測定機を用いて前記光学素子の第2の面の形状を測定する第2の面形状測定工程と、前記第2の面形状測定工程における第2の基準座標系を測定する第2の基準座標系測定工程と、前記第1及び第2の面形状と前記第1及び第2の基準座標系に基づいて前記第1の面と前記第2の面の位置関係を演算により求める演算工程とを有している、光学素子の面間の位置関係を求める方法。
Fターム (16件)：
2F069AA04 ,  2F069AA66 ,  2F069BB40 ,  2F069CC07 ,  2F069DD22 ,  2F069GG01 ,  2F069GG52 ,  2F069GG62 ,  2F069HH01 ,  2F069JJ08 ,  2F069JJ25 ,  2F069LL02 ,  2F069MM02 ,  2F069NN00 ,  2F069PP01 ,  2F069RR05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
  • 特開平10-344330
  • 特開平10-344330
  • 三次元形状測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-166060   出願人：キヤノン株式会社
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