特許

J-GLOBAL ID：200903000268520789

直接露光装置

発明者： 三水 宏章
出願人/特許権者： 新光電気工業株式会社
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  水谷 好男 ,  伊坪 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-122032
公開番号（公開出願番号）：特開2007-293099
出願日： 2006年04月26日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】露光対象基板の露光面上に照射される光による照射スポットにボケやゴーストが発生することがない、高い露光精度を有する直接露光装置を実現する。【解決手段】複数の点光源が2次元配列された面光源11と、各点光源に一対一に対応するマイクロレンズ22が2次元配列されて構成されるマイクロレンズアレイ12と、面光源11からの光をマイクロレンズアレイ12に投影する第1の投影レンズ13と、各マイクロレンズ22による光の集光位置の近傍に各マイクロレンズ22に一対一に対応する窓23が2次元配列されて構成されるシャドーマスク14と、各窓23を通過した光を露光対象物3の露光面上に投影する第2の投影レンズ15と、を備える直接露光装置1において、マイクロレンズアレイ12側のシャドーマスク14の面上に、入射された光を拡散して出射する光拡散手段16を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の点光源が2次元配列された面光源と、各前記点光源に一対一に対応するマイクロレンズが2次元配列されて構成されるマイクロレンズアレイと、各前記マイクロレンズによる光の集光位置の近傍に各前記マイクロレンズに一対一に対応する窓が2次元配列されて構成されるシャドーマスクと、を備え、露光対象物の露光面上に所望の露光パターンを形成する直接露光装置であって、 前記マイクロレンズアレイ側の前記シャドーマスク面上に、入射された光を拡散して出射する光拡散手段を備え、 前記光拡散手段によって拡散された各前記マイクロレンズからの各光が、前記シャドーマスクの各前記窓を通過して前記露光対象物の前記露光面上に投影されることを特徴とする直接露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529

Fターム (7件)：

2H097AA03 ,  2H097CA03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18

引用特許：

出願人引用 (4件)

• レジスト露光方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-286141   出願人：株式会社エムエステック
• パターン描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-163851   出願人：大見忠弘, ボールセミコンダクターインク.
• パターン描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-393419   出願人：大見忠弘, ボールセミコンダクターインク.
• パターン描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-399101   出願人：大見忠弘, ボールセミコンダクターインク.