特許
J-GLOBAL ID：200903090974187293
パターン描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
池田 憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393419
公開番号（公開出願番号）：特開2005-156788
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】露光光の減衰がなく、高精度で安価なマイクロレンズアレーを使用するデジタルミラーデバイス(DMD)パターン描画装置を提供する。【解決手段】波長365nmの紫外光L11をDMD101の表面に入射させる。DMD101で反射した(描画に利用する)紫外光L13は投影光学系104を通り、ピンホール板106上に投影される。ピンホール板106の穴を通過した紫外光L14が多数の細い光線に分割され、縮小投影光学系108によって、基板109上に多数のスポットとして投影される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
波長400nm以下の紫外光を発生できる紫外光発生部、二次元配列状の微小ミラー、多数の穴を有する遮光膜が付けられた前記紫外光を透過する板から成るピンホール板、前記二次元配列状の微小ミラーの面を前記ピンホール板に投影する投影光学系、及び前記ピンホール板における前記遮光膜の面を描画対象の基板に投影する縮小投影光学系を含むことを特徴とするパターン描画装置。
IPC (3件)：
G03F7/20
, G03F1/08
, H01L21/027
G03F7/20 501
, G03F1/08 C
, H01L21/30 529
2H095BA02
, 2H095BB01
, 2H095BB12
, 2H095BB31
, 2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097CA03
, 2H097CA13
, 2H097LA20
, 5F046BA07
, 5F046CB05
, 5F046CB18
, 5F046CB27
出願人引用 (2件)
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USP6,428,940
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USP 6,473,237
審査官引用 (5件)
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