特許
J-GLOBAL ID:200903000369978417
ワ-クの研磨加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-006111
公開番号(公開出願番号):特開2000-202769
出願日: 1999年01月13日
公開日(公表日): 2000年07月25日
要約:
【要約】【課題】 予め均等で安定したクリープ変形をなさしめることにより、平坦度の高いウエーハその他の薄板ワークを得ることができる研磨加工方法を提供することを目的とする。【解決手段】 研磨剤の存在下でワークと研磨布間を摺動しつつ薄板状ワークの研磨を行なうワークの研磨加工方法において、前記ワークの研磨加工前若しくは研磨加工中断時において、前記ワークが研磨布に印加される面圧(研磨圧)より高い面圧で前記研磨布を押圧するダミープレートを用い、研磨剤又は水等の液の存在下でダミープレートと研磨布間を摺動させて、該研磨布にクリープ変形を起こさせ、該クリープ変形が生じている間のみ、前記ワークの研磨加工を行なうことを特徴とし、好ましくは前記ダミープレートの一部を凸状に形成して押圧且つ摺動させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
研磨剤の存在下でワークと研磨布間を摺動しつつ薄板状ワークの研磨を行なうワークの研磨加工方法において、前記ワークの研磨加工前若しくは研磨加工中断時において、前記ワークが研磨布に印加される面圧(研磨圧)より高い面圧で前記研磨布を押圧するダミープレートを用い、研磨剤又は水等の液の存在下でダミープレートと研磨布間を摺動させて、該研磨布にクリープ変形を起こさせ、該クリープ変形が生じている間のみ、前記ワークの研磨加工を行なうことを特徴とするワークの研磨加工方法。
IPC (2件):
B24B 37/04
, H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/04 K
, H01L 21/304 622 K
Fターム (8件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA12
, 3C058AA14
, 3C058AA19
, 3C058CB01
, 3C058DA09
, 3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平4-242929
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特開昭63-318260
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CMP用研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-187380
出願人:株式会社ニコン
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半導体装置の平坦化方法及び平坦化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-112091
出願人:スピードファム株式会社
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ウェーハ研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-225819
出願人:新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
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特開平4-242929
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特開昭63-318260
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特開平4-242929
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特開昭63-318260
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